数亿B+轮!中科卓尔,国产高端空白掩模版突围

芯片的电路图案，是怎样从设计图纸转移到晶圆之上？答案藏在光掩模版中。光掩模版承载芯片线路图形，依靠光刻工艺把图案转移到晶圆表面；而制备光掩模版的基础原材料，就是空白掩模版。它是一块在纯度、表面平整度、缺陷管控上都达到极高标准的石英基板。没有空白掩模版，就造不出光掩模版，芯片制造也就无从谈起。

长期以来，这一光刻 “底片” 被海外厂商垄断，越来越多国内从业者发力攻坚这一环节。

近日，成都中科卓尔宣布完成数亿元B+轮融资。投资方阵容包括中银国际投资、济南产发集成电路、建投华科、江阴新国联、川流投资等。 本次融资资金，重点用于高端石英空白掩模版核心工艺迭代以及量产产线建设，在超精密抛光、低缺陷清洗、真空镀膜等核心工序上，持续优化工艺稳定性与产品一致性。

想要看懂中科卓尔的价值，先要理清空白掩模版的技术难点。 芯片光刻过程本质属于“投影”复刻：光掩模版上预先制作好电路图形，光线穿过掩模版，经由光学镜头投影至晶圆表面，完成图形转移。如果说光掩模版是光刻的 “印版”，空白掩模版就是制作这块“印版”的基材。

空白掩模版的难点不在于单一参数达标，而是整套指标都要做到极致：石英基板需要纳米级面形精度，基材内部杂质、缺陷要控制在极低水平，镀膜层均匀致密，光刻胶涂布不能产生瑕疵。任意一个环节出现问题，都会影响后续图形加工精度，拉低芯片良率。

高端空白掩模版市场长期被日美少数企业把控。随着国内芯片产能持续扩张、供应链自主可控需求提升，本土掩模产业链对稳定、自主的规模化供货诉求愈发强烈。中科卓尔正是瞄准这个卡脖子环节开展攻关。

中科卓尔创始人杨伟博士，来自中科院光电所，深耕精密光学与超精密制造方向。2022 年，他入职西华大学航空航天与智能装备学院。 

中科院光电所在光学工程、超精密加工、精密仪器领域积淀深厚，杨伟深耕的精密光学、超精密制造技术，正是空白掩模版研发制造的底层支撑。

超精密抛光、低缺陷清洗、真空镀膜这些工序，本质上就是精密光学加工技术在半导体材料领域的延伸落地。

公司成立之后，杨伟带领团队承接空白掩模版产业链重点攻关项目，在超精密抛光、真空镀膜等关键技术上取得突破；团队自研的磁控溅射镀膜装备获评首台（套）重大技术装备。

和行业很多方案不同，团队没有单纯依靠进口设备、引进成熟工艺，而是自主设计核心装备，或是联合国内装备企业协同开发。 据企业介绍，现已搭建起涵盖材料检测、超精密抛光、低缺陷清洗、真空镀膜、匀胶在内的完整工艺体系，打通石英基板研磨抛光、清洗、镀膜、匀胶全流程。基板前道抛光需要同步管控面形精度、亚表面损伤、微颗粒缺陷以及材料应力，只靠外购设备很难实现。

依托精密光学技术积累，公司搭建起 “工艺开发 — 精密检测 — 装备迭代 — 批量验证” 的闭环研发模式；超精密抛光、真空镀膜等核心装备由自研或是联合国内厂商开发，自研磁控溅射镀膜装备已拿到首台套认定。

中科卓尔的技术进展，直观体现在客户验证进度上。企业披露，空白掩模版产品陆续通过下游客户考核，成功进入国内多家头部掩模制造企业供应链，项目从初期送样测试，推进到多批次小批量交付。

在半导体材料行业，这个进展具备标志性意义。空白掩模版验证周期漫长、准入标准严苛。送样、通过验证、小批量交付，每一步都代表产品的平整度、缺陷控制、镀膜均匀度等指标，在客户产线中经受住了实际生产考验。进入头部供应链并稳定多批次供货，意味着中科卓尔跨过了 “样品可行” 到 “产线可用” 的关键门槛。

本轮融资的投向，也指向下一阶段目标：搭建量产产线。想要从多批次小批量交付升级为稳定规模化供货，还需要持续改善工艺稳定性、统一产品品质。超精密抛光、低缺陷清洗、真空镀膜等工序的工艺升级，搭配自研与协同开发的专用装备，是规模化生产的基础。

当然，进入头部掩模供应链只是一个起点。不同客户、不同制程，对空白掩模版的性能要求各有差异。想要适配更先进制程，后续还需要持续技术迭代和长期客户验证。

来源：卓乎知芯

聚焦空白掩模版及合成石英材料产业链，交流技术研发、产品应用、市场动态、产能项目及上下游合作资源，欢迎行业同仁加入交流。

—论坛信息—

名称：空白掩模与合成石英材料技术论坛2026

时间：2026年12月3-4日

地点：苏州

主办方：亚化咨询

—会议背景—

空白掩模版（Blank Mask）是先进半导体和新型显示光刻工艺中的关键原材料，其底层依托高纯合成石英材料和高精度光掩模石英基板。以 SiCl₄、有机硅等为前驱体的气相合成路线制得高纯合成石英玻璃锭，再经石英基板生产空白掩模版。

在成熟制程与先进制程并行扩产、HBM 高带宽存储，AI 芯片需求拉动下，光刻工艺对掩模石英基板和空白掩模版提出更严苛的性能指标。同时，TFT‑LCD、OLED、Micro‑LED 等新型显示对石英基板的平整度、尺寸精度和批量一致性也不断抬高门槛。这些要求正反向推动合成石英原料体系、气相合成工艺、玻璃化与脱羟技术以及大尺寸石英基板精密加工的全面升级。

目前，高端合成石英玻璃与空白掩模版仍由少数日美企业主导，对中国半导体与 AI 产业链的算力供给和工艺安全构成关键约束。面向成熟制程与先进工艺节点以及 AI 芯片量产，构建以合成石英为核心的高端掩模材料体系，实现石英基板和空白掩模版的国产化，是半导体与算力产业链的重要基础工程。

在此背景下，亚化咨询将于2026年12月3–4日在苏州主办空白掩模与合成石英材料技术论坛2026，以“气相合成—石英基板—空白掩模版”为主线，聚焦先进半导体和AI芯片制造所需的合成石英技术路线、石英基板工艺和空白掩模版制造与检测技术，推动材料、工艺、装备与下游晶圆厂/面板厂协同，探索高端掩模材料国产化和算力基础设施安全的实现路径。

—会议主题—

1.AI浪潮下全球空白掩模版与合成石英材料产业动向

2.掩模技术在半导体与平板显示中的应用

3.高端光掩模对石英基板与空白掩模版的需求

4.面向成熟制程与先进制程的掩模材料

5.合成石英原料体系与前驱体技术路线

6.气相合成（CVD / FHD / PCVD）工艺路线与技术进展

7.合成石英玻璃锭质量对掩模基板与空白掩模的影响

8.光掩模用石英基板的大尺寸成型与精密加工

9.石英基板表面质量、缺陷与应力控制

10.从石英基板到空白掩模版的薄膜与界面工程

11.空白掩模版与石英基板制造装备的技术与国产化进展

12.国内合成石英与空白掩模版的技术合作与产业协同

13.工业参观

—赞助方案—

亚化咨询会议赞助项目介绍
主题演讲	做一个主题演讲，介绍您的公司和业务
现场展台	现场展板(2m*3m)，也可展示设备、样品、资料
会刊广告	研讨会会刊，彩色全页广告（尺寸A4）
资料入袋赞助	企业的宣传册放入会议包袋
现场易拉宝	会场内外展示易拉宝展架
礼品赞助	您可以提供印有赞助商LOGO的礼品赠送参会嘉宾
茶歇赞助	冠名和赞助会议期间的茶歇
晚宴赞助	冠名和赞助会议的招待晚宴
Logo展示	背景墙 logo，会刊封面logo
播放视频	在会议茶歇、午餐期间播放贵公司的宣传视频

展位火热预订中！会场外特设精品展位，现面向优质供应商开放合作，助您精准链接行业核心资源与客群。合作形式多元灵活，包括：企业主题演讲、联合主办、晚宴赞助、广告宣传、茶歇赞助、礼品赞助等多种形式，全面覆盖会议各环节宣传场景。

往期会议回顾

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—会议预告—