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15亿元!清溢光电加码高端半导体掩模版

15亿元!清溢光电加码高端半导体掩模版
11月9日晚间,清溢光电(688138)公告,控股子公司佛山清溢微电子有限公司拟在现有高端半导体掩膜版生产基地建设项目一、二期基础上投资建设三期项目,计划总投资额不超过15亿元,主要产品为覆盖28nm—14nm制程的高端半导体掩膜版。
根据公告,三期项目将在佛山清溢微现有厂房基础上改造并引入新设备、扩建生产线,建设期36个月,预计2026年12月开工;资金来源为佛山清溢微自有或自筹资金,不涉及募集资金。
此前,2023年8月,公司宣布拟在佛山市南海区投资35亿元建设佛山生产基地,其中高端半导体掩膜版项目分三期、合计拟投资15亿元,一期6.05亿元、二期2.95亿元、三期6亿元。目前一期已顺利投产,二期正稳步推进。
清溢光电表示,本项目定位为面向国内先进制程晶圆制造环节的高端半导体掩膜版本土化配套产能,聚焦28nm—14nm节点产品供给。公司称,当前国内先进制程掩膜版国产化率偏低,供给较多依赖境外厂商,存在交付周期、价格、合规保供等风险;公司已实现55nm掩膜版制程节点技术突破,向28nm—14nm节点迭代具备技术连贯性。
掩膜版是光刻工艺中连接芯片设计与制造的核心耗材,被业内称为“芯片底片”,其质量直接决定芯片制程精度与良率。

清溢光电成立于1997年,并于2019年登陆科创板,长期专注掩膜版研发、生产和销售,业务分为平板显示和半导体芯片两大板块。前者服务于LCD、AMOLED、LTPS等显示面板制造,后者面向晶圆制造及相关半导体领域。

从收入结构来看,平板显示仍是清溢光电的主要业务。

2026年上半年,清溢光电实现营业收入6.54亿元,其中平板显示掩膜版收入5.28亿元,同比增长7.42%,营收占比超80%;半导体芯片掩膜版收入约1.01亿元,同比增长0.95%。

技术研发方面,清溢光电55nmBinary掩膜版已通过客户验证,正在推进130nm至40nm相关PSM、OPC工艺研发,并规划28nm节点工艺开发。

2026年9月,清溢光电进一步披露,55nmPSM相移掩膜版已获得客户采购订单并完成交货,进入上线认证阶段。

不过,交货与批量供货之间仍存在距离。清溢光电明确提示,客户认证周期及结果存在不确定性,尚不能确定何时能够实现规模化供货。

财务数据也反映出产能扩张过程中的压力。

2026年前三季度,清溢光电实现营业收入9.74亿元,同比增长4.90%;归母净利润1.60亿元,同比增长11.02%。但第三季度单季归母净利润为4163.84万元,同比下降19.47%。

截至2026年9月末,清溢光电固定资产达到27.33亿元,较2025年末增长113.02%。随着佛山基地部分厂房和设备转入固定资产,新增折旧对当期利润形成影响。

11月初,清溢光电在投资者交流中表示,佛山平板显示掩膜版业务已实现盈亏平衡,但半导体掩膜版基地仍处于产能爬坡阶段,由于工艺难度更高,爬坡周期也更长。

这意味着公司虽然持续增加设备和产能投入,但新产线尚未完全形成与投资规模相匹配的收入贡献。来源:半导体前沿

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