🔥 核心观点
2026年全球高端InP衬底需求预计达220-250万片/年,有效产能仅约60万片,供需缺口高达70%。CPO外接光源(ELS)架构对InP高度依赖,谁掌握InP产能,谁就握住CPO产业链的"阀门"。
一、为什么磷化铟突然这么重要?
磷化铟(InP)是一种III-V族化合物半导体材料,其直接带隙为1.34eV,恰好对应1.31μm和1.55μm光通信波段——这是光纤传输损耗最小的窗口。同时,InP的高电子迁移率(约4600-5400 cm²/V·s)和优异的热导率,使其成为高功率激光器的唯一现实选择。
简单来说:没有磷化铟,就没有光通信里的激光器;没有激光器,AI数据中心的高速互联就是空谈。
二、CPO架构:让InP从配角变主角
传统可插拔光模块时代,InP虽然是核心材料,但用量可控。然而CPO(共封装光学)的到来彻底改变了格局。
CPO将光引擎直接封装在交换芯片或GPU旁边。但激光器是温度敏感器件,在800W+甚至1kW级别的AI加速器封装环境下,直接集成会导致波长漂移和可靠性下降。因此,外接光源(ELS)架构成为主流方案——将激光器从高功耗芯片封装中剥离,置于温控模块中,再通过光纤将激光注入CPO封装内的无源光引擎。
每个800G CPO光引擎需要8个波长的CW激光器,每个激光器需要0.5-0.8平方厘米的InP外延片。按2026年全球CPO交换机出货量50-60万端口计算,折算需要InP衬底220-250万片/年。
但全球有效产能仅约60万片。
三、产业链拆解:从矿石到光芯片
3.1 上游原材料
磷元素:地壳含量较高,全球70%储量在摩洛哥,并不稀缺。
铟元素:典型的"稀散金属",地壳含量极低,几乎没有独立矿床,通常来自锌矿、铅矿、锡矿。全球70%储量在中国。这几年涨价主要以铟为主,但因为铟在InP晶圆成本占比极小(整个材料部分占总成本5%以内),涨价并未显著冲击InP晶圆价格。
3.2 制造封测环节
以4吋InP EEL晶圆(DFB)为例,成本占比:
- 衬底(15%)
:单晶生长→切片→研磨→CMP抛光→epi-ready wafer - 外延层(25%)
:MOCVD/MBE外延,多层III-V结构生长 - 前端制造(45%)
:光刻、光栅刻蚀、ridge waveguide、干法刻蚀、金属电极 - 后端制造(15%)
:晶圆测试、切割、刻面涂层、芯片分选
3.3 衬底:格局最集中的环节
InP衬底加工难度极高,全球仅5-8家具备规模化生产能力:
- 住友电工
:全球最大,市占率约35%,优势在于低位错密度(EPD<500 cm⁻²) - AXT/通美
:排名第二,市占率约25%,2026年计划产能翻倍 - JX Advanced Metals
:排名第三,市占率约15%,连续两次追加投资
住友+AXT合计控制全球80%市场,形成事实上的双头垄断。
四、供需测算:2026年理论上已经满产
根据测算:
- 2025年
:激光die总需求约329Mn,对产能906Mn die/year尚可承受 - 2026年
:激光die总需求约1484Mn,对产能906Mn die/year,理论上已经满产
如果Vera Rubin在Scale Up开始用CPO方案,外挂ELS的CW光源还需要每个ELS用16个DFB laser,对InP的需求只增不减。
五、巨头锁定产能的动作
英伟达:疯狂锁定
与Lumentum签署数十亿美元级采购承诺,投资20亿美元支持扩产和美国fab建设 与Coherent签署类似协议,同样投资20亿美元 Lumentum与第三方衬底供应商签署7年长期协议,供应保障延伸到2030年代中期
IDM扩产竞赛
- Coherent
:全球首个6吋InP fab,2026年产能达当前5倍 - JX Advanced Metals
:两次追加投资,产能目标提升50% - AXT
:2025 Q3 InP收入环比增长超250%,计划2026年产能翻倍 - 住友
:未明确扩产,但已储备6吋晶圆能力
六、中国企业的追赶
通美晶体(AXT中国子公司)
中国InP衬底产能主力。2026年底前计划产能翻倍,季度InP营收目标3500万美元。在手订单已从Q2的2400万美元飙升至6000万美元。但面临出口管制不确定性:2025 Q4因许可获批不足,InP营收从1310万骤降至800万美元。
云南锗业(鑫耀半导体)
国内唯一实现InP衬底规模化批量生产的企业:
现有产能:15万片/年(2-4英寸),计划扩至40万片/年 6英寸良率突破70%,达国际水平 华为哈勃已入股,华为锁定53%产能 客户覆盖中际旭创、光迅科技等头部光模块厂商
三安光电
走IDM路线,覆盖从衬底到芯片封测的全产业链。已具备6英寸InP-MOCVD外延线和6英寸晶圆级激光器芯片制造产线,但InP衬底环节仍高度依赖外购。
长光华芯
中国半导体激光器芯片代表企业,200mW CW DFB光通信芯片已对标800G/1.6T光模块及CPO场景,2026年3月宣布增资加快开发高端磷化铟激光器芯片。
七、扩产瓶颈:4英寸良率仅20%
目前产量未能提升的主要原因是生产环节的瓶颈,而非需求不足:
4英寸单晶生长合格率偏低,是制约整体产量释放的关键因素 4英寸产品整体成品率目前约20%(主要是高阻掺铁产品) 6英寸刚完成技术攻关,尚未大规模商业化 InP晶片较脆,加工过程中容易碎裂,良率一般在85%-90%
预计2026年下半年到2027年上半年,随着技术攻关推进,产量将实现较大幅度增长。
八、投资关注点
- 供需缺口是结构性的
:AI算力需求指数级增长,但InP产能年增长仅20-30%,缺口只会越来越大 - 出口管制是双刃剑
:中国管制InP出口,既限制了AXT/通美的全球供应能力,也推动了国产替代加速 - 6英寸是分水岭
:从4英寸到6英寸的良率突破,将显著降低die成本,改变竞争格局 - 华为生态值得重视
:华为深度绑定鑫耀半导体,锁定53%产能,产业链话语权持续提升 - CPO时间窗口
:CPO规模化部署预计2027年底及以后形成业务拐点,当前仍是布局期
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