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AI时代散热迎来“金刚石解法”:专家共话材料、器件与应用

AI时代散热迎来“金刚石解法”:专家共话材料、器件与应用
2026年8月20日,由协创微半导体主办的第十一期《智汇“芯”光 大师课》「金刚石材料如何破解AI算力时代散热极限」顺利举办。

本期大师课汇聚来自厦门云天半导体科技有限公司、阿基米德半导体(合肥)有限公司、西安电子科技大学、郑州大学的四位产业与科研一线专家,围绕金刚石散热片集成创新、功率半导体应用、金刚石材料生长与电子器件、微纳光学元件及其应用展开深度分享,与线上行业同仁共同探讨金刚石材料从生长制备、器件集成到散热与光学应用的技术进展,以及从基础研究迈向工程化和产业化应用的关键路径。

精彩回顾

本次大师课由协创微半导体总经理 Lisa程丽娜女士主持。Lisa围绕主题引导四场演讲与互动问答有序推进,并结合各位嘉宾的分享内容进行梳理与串联,促进专家与线上行业同仁深入交流。

突破异质集成界面,让金刚石导热优势转化为芯片散热能力

厦门云天半导体科技有限公司 董事长 于大全博士带来《AI算力时代——金刚石散热片集成创新方案》的主题分享。

于博士指出,随着AI芯片功耗从400W不断向千瓦乃至万瓦级演进,传统依靠Bump、布线和顶部热沉导热的散热路径正逐渐逼近极限。面向未来高热流密度芯片,需要重新构建散热通道,探索金刚石中介层、芯片背面贴附金刚石热沉、微流道液冷,以及在硅通孔中沉积金刚石等方案,实现热量更快速、更高效地导出。

不过,金刚石具备高热导率,并不意味着能够直接转化为芯片的实际散热能力。于大全强调,芯片与金刚石之间的界面热阻,是材料走向工程应用必须突破的核心难点。为此,团队正推进低温生长与键合工艺研究,目标将工艺温度降至400℃以下,并通过纳米金属层键合技术改善界面质量、降低热阻。

在异质集成方面,厦门大学团队已实现65颗硅芯片与4英寸金刚石晶圆的集体键合,相关2.5D封装验证中芯片结温降低超过24℃。此外,团队开发的碳化硅—金刚石复合材料热导率达到700—800 W/(m·K),部分样品突破1000 W/(m·K),其热膨胀系数与硅接近,并在−55℃至150℃的500次热循环测试中保持良好稳定性。

这些研究成果表明,金刚石正从单一高导热材料,逐步走向与芯片、封装和冷却系统深度融合,为AI算力芯片及航空航天等高可靠性应用提供新的散热路径。

从封装架构到系统降本,探索金刚石在功率模组中的应用

阿基米德半导体(合肥)有限公司 CTO 周洋博士带来功率半导体技术发展趋势与金刚石应用前景》的主题分享。

周博士指出,随着功率器件向高功率密度、高频化与高可靠性方向发展,未来5年相关功率密度需求预计提升1.3—8倍,封装所面临的挑战也由单一散热问题,转向电、热、力多物理场耦合。传统封装的杂散电感可达几十纳亨,已难以充分发挥高频器件的性能优势。将芯片埋入PCB的嵌入式封装,有望将杂散电感降至2纳亨以下,并有效降低开关损耗,成为高集成、低杂感封装的重要方向。

不过,大功率嵌入式封装走向量产仍需跨越多重门槛,包括埋入芯片后无法返修所带来的良率风险、高压绝缘与局部放电、多芯片并联均流,以及高功率密度下的散热难题。

针对热管理需求,周博士重点分析了金刚石材料在功率模组中的应用价值。单晶和多晶金刚石性能优异,但成本约为复合材料的1000—2000倍,短期内大规模产业化仍有难度。相比之下,金刚石—碳化硅等复合材料在导热性能、可靠性与成本之间取得更好平衡,更具落地潜力。

从系统层面看,采用金刚石复合材料替代氮化铝等传统陶瓷基板,可使模块输出功率提升约33%,并将并联芯片数量由8颗减少至6颗,以材料升级带动芯片减量和模组降本。阿基米德半导体三电平模块Demo进一步显示,采用金刚石材料后,模组热阻平均降低49.3%,最高降幅达到55%。

周博士表示,金刚石的价值不应只看单一材料成本,而应从功率密度、芯片数量和系统成本综合评估,这也为其在功率半导体封装中的产业化应用提供了新思路。

突破尺寸与性能边界,推动金刚石材料走向电子器件应用

西安电子科技大学 教授 任泽阳博士带来《金刚石材料生长和电子器件应用》的主题报告。

任博士指出,缺少低成本、大尺寸衬底,是限制金刚石半导体产业发展的关键问题之一。针对单晶尺寸受限的难题,团队采用马赛克拼接技术,已实现2英寸单晶金刚石稳定生长,并初步完成3英寸拼接。同时,团队还在探索蓝宝石、硅等衬底上的异质外延生长,希望进一步突破单晶金刚石的尺寸限制,为规模化制备和器件应用奠定基础。

在材料质量及探测器应用方面,团队自主制备的单晶金刚石已接近国际先进水平,基于该材料开发的探测器电荷收集效率超过97%,展现出在辐射探测等领域的应用潜力。

面向电子器件性能提升,团队围绕金刚石不同晶向及表面终端结构开展探索。基于(111)晶向金刚石研制的微波功率器件,实现了1.35A/mm的高电流密度,微波输出功率密度达到3W/mm以上;通过复合终端结构设计,相关高压功率器件的击穿电压超过1kV,工作电压可达200V,进一步验证了金刚石在高频、高压器件中的性能优势。

此外,团队开发了可在400℃以下生长的纳米晶金刚石薄膜,并将其用于氮化镓器件表面钝化。测试结果显示,该方案可使器件散热效率提升35%—40%,并有效缓解有源区热量积聚。

从大尺寸材料制备到器件性能验证,再到与氮化镓的异质集成,任泽阳团队的系列研究为金刚石半导体突破材料与工艺瓶颈、加快走向实际应用提供了重要支撑。

以金刚石微纳光学元件拓展极端环境应用边界

郑州大学 副教授 李鎏博士带来《金刚石微纳光学元件及其应用研究》的主题报告。

李博士指出,金刚石兼具高硬度、高热导率、宽光谱透过、化学稳定及抗激光损伤等优势,是极端环境光学元件的理想材料。实验显示,金刚石超透镜在经历王水、强碱浸泡及喷砂处理后,仍能保持完整结构和稳定的成像功能,展现出面向深空探测等恶劣环境的应用潜力。

在温度适应性方面,金刚石超透镜在−100℃至500℃的宽温域范围内,其点扩散函数等关键指标几乎保持不变。相比之下,传统二氧化钛或硅基透镜容易因温度变化产生明显的热诱导相差。这一特性使金刚石光学元件能够适应高温、低温及温度剧烈变化的应用场景。

面向特殊波段应用,金刚石在220—280nm日盲紫外波段具有较高透过率,折射率约为2.4,可用于导弹跟踪、火灾预警和非视距通信等领域,实现高信噪比成像。在30W高功率激光照射下,金刚石超透镜的焦点未出现明显漂移,而传统物镜的焦点漂移可达200μm,显示出其在高功率激光系统及光镊操控中的优势。

加工方面,团队已建立较为稳定的金刚石微纳加工流程,可实现40nm线宽和10∶1深宽比的结构刻蚀,并积极探索纳米压印技术,以提升加工效率、降低制造成本。随着单晶金刚石衬底价格持续下降,未来几年1cm×1cm尺寸衬底的价格有望降至百元以下。

从耐极端环境到特殊波段成像,再到高功率激光操控,金刚石微纳光学元件正展现出广阔的应用前景。

互动问答

本期大师课设置了互动问答环节。线上观众围绕金刚石散热路线、材料选择、异质集成、可靠性验证及微纳光学加工等问题,与四位嘉宾展开深入交流。
针对金刚石与碳化硅散热是否存在竞争的问题,于大全博士表示,两条路线将长期共存:金刚石成本较高,更适合散热要求极高的应用;碳化硅成本相对较低,可满足中高端散热需求。金刚石与TGV玻璃基板也不存在直接替代关系,玻璃基板主要承担底层高密度互联,金刚石则更多用于芯片堆叠间的散热层或热沉。谈及单晶与多晶金刚石的选择,于博士指出,多晶金刚石虽然能够实现较大尺寸,但容易出现翘曲、变形和晶粒不均等问题;综合生长、分离及磨抛效率,单晶金刚石更适合未来3D封装。
围绕复合金刚石材料的失效机制,周洋博士介绍,目前行业尚未形成专门的技术标准,主要参考DBC、AMB等传统基板的考核体系,潜在失效模式包括脆性断裂、翘曲变形,以及界面杂质引起的绝缘失效。针对GaN-on-Diamond等异构集成方案的产品导入门槛,周博士强调,单一的温度循环或功率循环测试不足以充分暴露风险,还需要开展热、电、腐蚀等多物理场耦合验证,重点考察材料在氧化、腐蚀、快速电压变化和温度变化下的可靠性。
谈及金刚石外延与界面处理,任泽阳博士表示,异质外延的主要难点在于形核的均匀性和一致性,同质外延则需重点控制厚膜生长过程中的应力与开裂。现阶段,纳米晶金刚石方案更具产业化潜力,通过在界面构建氮化硅“声子桥”,可降低热散射、提升热传输效率,同时将工艺温度控制在约300℃。
针对金刚石微纳加工及光学应用,李鎏博士介绍,金刚石微纳加工可沿用传统超表面制备流程,并通过优化等离子体刻蚀参数实现纳米级精度。与石英、蓝宝石及碳化硅相比,金刚石兼具较高折射率、宽光谱透过能力和优异的散热性能,在深空探测、高功率激光等极端环境中优势更加突出。
通过现场问答,四位嘉宾进一步补充了金刚石材料在成本、性能、界面、工艺和可靠性方面的关键考量,为观众理解其应用边界与产业化条件提供了更加具体的参考。
本次直播同步为观众准备了惊喜好礼,在交流干货的同时送出专属福利。感谢所有积极参与互动的产业伙伴。未中奖的朋友可持续关注“协创微洞察”公众号与视频号,后续大师课活动福利持续更新,更多技术干货与惊喜等你来。

从材料生长到多元应用,解锁金刚石的“终极潜力”

第十一期《智汇“芯”光 大师课》就此圆满落幕。从散热片集成创新、功率半导体应用,到材料生长与电子器件,再到微纳光学元件,四场分享共同呈现金刚石材料在AI算力、高功率器件及光学领域的技术潜力与应用前景。金刚石材料走向产业化并非单一环节的突破,而是材料生长、异质集成、散热设计、器件开发、微纳加工与应用验证等多环节协同推进的结果。
作为聚焦泛半导体垂直领域的生态服务平台,协创微始终以“协同、创新、共赢”为价值观,以大师课为产业纽带,链接产学研各界的技术、人才与资源,推动一线洞察转化为产业落地的实际动力。
感谢四位老师带来的精彩分享,也感谢各位产业同仁、合作伙伴、线上观众以及台前幕后工作人员的全程参与。
错过直播的同仁无需遗憾!经嘉宾授权,本期大师课演讲精华视频将在「协创微洞察」视频号陆续上线,敬请期待!

下期预告|9月23日聚焦NPO、CPO、电光集成底座

第十二期《智汇“芯”光 大师课》将于2026年9月23日14:00在线开讲,由协创微半导体主办,主题为「从NPO到CPO:AI 算力时代的电光集成底座
大师课将邀请4位产业与科研专家,围绕NPO与CPO技术演进、先进封装基板、光电协同集成、材料与设备创新等议题展开分享,梳理电光集成底座的技术进展、量产门槛与产业化机遇

合作邀请

协创微诚挚邀请产业链上的领军企业、科研院所与各类行业组织加入我们。无论是分享前沿技术、联合策划主题课程,还是开展产业资源对接,协创微都将以专业服务和开放平台连接各方伙伴,共同推动中国半导体产业自主创新与高质量发展!

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