6月11日 复盘 光罩(掩模版)

光罩 = 掩模版（Photomask/Mask），是芯片光刻工序的精密底片 / 母版。如果说光刻机是画笔，那么光罩就是画稿；曝光时光源穿过光罩，把刻在铬层上的上亿条电路图形，完整复刻到硅片晶圆上。

• 掩模版由高纯石英基板+ 表面铬遮光膜 + 保护膜组成；透光区光线通过、遮光区挡住光线，实现图形转移。
• 掩模版是半导体第三大核心材料（仅次于硅片、电子特气），占半导体材料市场约 12%，直接决定芯片良率、线宽精度。
• 当前，国内主攻光罩制造成熟制程国产替代。包括晶圆厂内部自建产线和独立第三方外售厂商。其中，晶圆厂内部自建产线包括有台积电、三星、英特尔、中芯国际等，但均为自用不外售，垄断 7nm 以下先进节点；独立第三方外售厂商中全球第三方寡头包括美国福尼克斯 Photronics、日本凸版 Toppan、DNP，这三家合计全球市占率超 85%。所以，当前光罩整体国产化率仅10%。而28–90nm 中高端半导体光罩国产化率不足3%，几乎全靠进口，替代空间极大。