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应用分享 | Sensofar 3D光学轮廓仪在半导体精密三维测量上的应用

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应用分享 | Sensofar 3D光学轮廓仪在半导体精密三维测量上的应用

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总结交流

经验荟萃

FRIDAY

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仪器设备介绍

产品简介

S-neox在半导体、光学器件、材料、超精密加工、航空航天等领域被广泛应用。能够观测产品材料的表面形貌和轮廓尺寸;能够实现产品结构的2D尺寸、3D尺寸测量;能够实现图像的自动拼接;

该设备具有高分辨率、大景深观察,纵向分辨率达0.01nm;能够进行表面粗糙度、台阶高度等微结构测量;

设备同时拥有白光干涉、相位差干涉、共聚焦、多焦面叠加等几种不同的测量功能技术,在使用中可以一键切换几种不同的测量模式,针对不同表面结构和不同精度要求的产品都能完成测量分析。

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精密测量赋能半导体

随着半导体制造工艺向更先进制程节点快速演进,精密三维测量技术已成为支撑产业技术升级与良率提升的核心能力。”半导体制造中的精密三维测量技术”主题网络研讨会,聚焦该领域的前沿技术突破与产业化应用,深入探讨了从纳米级形貌表征到在线检测集成的全链条解决方案,为行业技术发展方向提供了重要参考。

第三代半导体材料的精密测量挑战

随着金刚石、碳化硅等超宽禁带半导体材料及钙钛矿等新型功能材料的研发与应用加速,晶圆制造与材料表征面临更高精度的三维测量需求。通过白光干涉与共聚焦等多技术融合的测量方案,结合智能算法优化,研究人员能够精准表征具有微米级颗粒结构与纳米级表面特征的复杂形貌,为新材料工艺开发与质量控制提供可靠的数据支撑。

异构集成技术的创新突破

随着异构集成技术的快速发展,通过将微透镜阵列、共封装光学元件及新型功能材料等关键组件集成于同一封装系统,不仅有效拓展了器件的功能维度,还显著提升了光电互联性能与信号传输效率。该技术的核心在于实现光、电、热等多物理场的高效协同优化,为半导体器件向更高集成度、更低功耗、更强性能的方向演进提供了关键技术支撑。

MEMS技术的关键作用

微机电系统(MEMS)作为异构集成架构中的核心功能单元,通过在单一封装体内实现机械结构、光学元件与电子电路的深度融合,有效突破了传统分立器件的物理边界。这种高度集成的技术路径,不仅显著缩减了系统体积与重量,还为感知、执行与信号处理等多功能协同提供了硬件基础,为半导体器件向小型化、智能化、低功耗方向演进开辟了新的技术空间。

解决方案助力产业升级

从Sensofar的3D光学计量解决方案集成了干涉、共聚焦、Ai多焦面叠加技术和膜厚测量等先进技术,为半导体制造提供的精度保障。配合专业分析软件SensoVIEW和SensoPRO,该系统能够实现台阶高度、表面形貌和粘合界面等关键参数的可重复自动化测量。

这些技术创新正在推动半导体封装和异构集成技术持续发展。通过提供高精度、高稳定性的测量数据,Sensofar的解决方案为下一代高性能器件的研发制造提供了有力支持,帮助产业界突破技术瓶颈。

随着半导体技术节点的不断微缩,精密计量技术的重要性日益凸显。从材料研究到器件制造,从工艺优化到质量管控,精准的测量数据正成为推动技术创新和产业升级的重要基石。未来,这种技术融合与创新将继续为半导体行业注入新的活力。

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