中微公司成功举办2025年度业绩说明会

2026年4月1日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（简称“中微公司”，证券代码：688012）在临港产业化基地成功举办2025年度业绩说明会。中微公司董事长兼总经理尹志尧博士与公司管理团队出席会议。本次会议受到了市场的广泛关注，吸引了众多机构投资人、证券分析师及媒体代表等嘉宾。会议通过上证路演、价值在线等平台开放实时直播并与广大投资者线上互动交流。

中微公司自2004年成立以来的20多年里，始终坚守开发高端半导体微观加工设备的初心，2025年更是在“有机生长”上实现重大突破、在横向拓展上向技术领先的高端设备平台化集团公司大步迈进的关键一年。2025年，公司上下一心、攻坚克难，以技术创新为核、以精益营运为基、以战略布局为纲，取得了公司成立以来最为丰硕的经营成果，在高质量发展的道路上迈出了坚实步伐。

中微公司董事长兼总经理尹志尧博士分享业绩亮点

业绩说明会上，尹志尧博士及其他高管向广大投资者分享了业绩亮点及战略布局。尹志尧博士谈到，面对行业发展的新机遇与外部环境的新挑战，中微公司始终站在先进制程工艺发展的最前沿，绝不抄袭和复制国外的标配设备，一直坚持“技术的创新”，“产品的差异化”和“知识产权保护”三项基本原则。作为行业领先的半导体设备企业，中微公司坚持有机生长和外延扩展相结合的策略。产品覆盖度持续提升，正稳步迈入多样化、平台化和规模化的发展新阶段。近年来，公司不断提高开发新的设备产品的质量和速度，将新产品的开发从传统的3到5年周期大幅缩短至2年以内。2025年，公司研发投入37.44亿元，占年销售的30.2%，远高于科创板上市公司10%到15%的平均水平。产品开发的项目涵盖六大类，超过二十款新设备。

2025年，公司延续了多年的高速增长态势，经营业绩再创历史新高。在过去十三年公司营业收入年均增长保持高于35%的基础上，2025年营业收入达到123.85亿元，同比又增长约36.62%。公司的综合营运管理水平持续精进，各项KPI指标进一步优化，全年保持100%的按时交付率，设备缺陷率低于国际领先厂商，综合竞争优势持续强化与提升。公司始终聚焦提高劳动生产率，在人均经营效率上不断实现新突破，2025年公司人均年销售已超450万元，远高于国内半导体设备公司平均水平，年销售与劳动力成本的比值更是超过国际领先设备公司两倍以上。

凭借强有力的研发团队和深厚的客户关系，公司开发出一个又一个成功的刻蚀设备和薄膜设备，快速进入市场，为集成电路和泛半导体微观器件的客户提供极具竞争力和高性价比的设备产品，并不断提高市场占有率。截至2025年底，公司累计已有超过7800台等离子和化学薄膜的反应台，在国内外170多条生产线实现量产和大规模重复性销售。

业绩说明会现场

尹志尧博士针对投资者关心的问题分享到，2025年公司的薄膜设备销售迎来爆发式增长，营收同比大幅增长约224.23%，成为公司业绩增长的重要新引擎。公司以行业领先的研发速度，在短时间内成功开发出十几种导体和介质薄膜核心设备，多款产品实现技术与市场的双重突破。公司在量检测设备，特别是电子束量检测设备和湿法设备上全面布局，取得了可喜的进展。2025年公司发起对杭州众硅的收购，得到了业界的广泛认可，双方将形成显著的战略协同，标志着中微向“集团化”和“平台化”迈出关键的一步。通过“有机生长”和“外延扩展”，公司在五年左右时间将覆盖60%以上的集成电路高端关键设备和70%以上的先进封装设备，成为集成电路设备的平台型公司。

尹志尧博士介绍，中微公司持续深耕泛半导体与新兴设备领域，多年的布局与研发在2025年结出丰硕成果。先进封装所需的TSV第三代刻蚀机即将实现市场突破。氮化镓基MOCVD设备的行业领先地位持续稳固，同时开发出碳化硅和氮化镓功率器件用MOCVD设备、Micro LED所需的蓝绿光和红黄光等四款新型MOCVD设备，并陆续推向市场，进一步丰富了MOCVD设备的产品体系，满足泛半导体领域多样化的市场需求。尤为值得一提的是，公司在大平板设备领域实现了从无到有的跨越式突破，仅用18个月时间，就成功开发出OLED 8.6代线大平板PECVD设备，达到客户生产线 ±5% 薄膜厚度均匀性要求，并顺利进入大生产线认证，成功填补了国内在该领域的技术空白，为我国新型显示技术领域的设备自主可控贡献了中微力量。

业绩说明会问答交流环节

随着广州和成都研发及生产基地建设的相继启动，中微公司未来厂房总面积将达到85万平方米，进一步增强产品研发与高端设备制造能力，全面深化在半导体及泛半导体产业链的战略布局，持续巩固其在全球高端半导体设备领域的领先地位。

未来，中微公司将继续坚持“三维立体生长” 与 “有机生长和外延扩展”相结合的战略，持续巩固在集成电路关键设备领域的核心竞争力和优势，不断拓展泛半导体关键设备应用，并通过持续的技术升级和深度的产业链合作进行新兴领域探索，通过“科创企业五个十大”的学习和传承，使企业总能量、对外竞争的净能量最大化，实现高速、稳定、健康、安全的高质量发展，为2035年在规模、产品竞争力和客户满意度上成为全球第一梯队的半导体设备公司打下坚实的基础。

关于中微半导体设备（上海）股份有限公司

中微半导体设备(上海)股份有限公司（证券简称：中微公司，证券代码：688012）致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的CCP高能等离子体和ICP低能等离子体刻蚀两大类、包括二十几种细分刻蚀设备已可以覆盖大多数刻蚀的应用。中微公司的等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国内和国际一线客户，从65纳米到3纳米及更先进工艺的众多刻蚀应用。中微公司最近十年着重开发多种导体和半导体化学薄膜设备，如MOCVD，LPCVD，ALD，PVD，PECVD和EPI设备，并取得了可喜的进步。中微公司开发的用于LED和功率器件外延片生产的MOCVD设备早已在客户生产线上投入量产，并在全球氮化镓基LED MOCVD设备市场占据领先地位。此外，中微公司已全面布局光学和电子束量检测设备，并开发多种泛半导体微观加工设备，包括大平板显示设备等。这些设备都是制造各种微观器件的关键设备，可加工和检测微米级和纳米级的各种器件。这些微观器件是现代数码产业的基础，它们正在改变人类的生产方式和生活方式。在近五年的全球半导体设备客户满意度调查中，中微公司总评分四次获得第三，薄膜设备四次被评为第一。