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76家光刻掩模板企业汇总!

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  • 来自彤程,龙图光罩,SEMI,复旦大学,南开大学,暨南大学,苏州实验室,欣奕华,中电科48所,安捷伦,湖北菲利华,新维度微纳等单位的专家将作精彩报告

  • 第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开

76家光刻掩模板企业汇总

  • 来源:半导体综研

论坛信息

名称:第3届光掩模与光刻胶技术论坛

时间:2026年4月24日

地点:上海

主办方:亚化咨询

—会议日程

展位火热预订中!会场外特设精品展位,现面向优质供应商开放合作,助您精准链接行业核心资源与客群。合作形式多元灵活,包括:企业主题演讲、联合主办、晚宴赞助、广告宣传、茶歇赞助、礼品赞助等多种形式,全面覆盖会议各环节宣传场景。

往期会议回顾

赞助方案

项目

项目内容

主题演讲

25分钟主题演讲

参会名额

微信推送

“电子材料前沿”微信公众号,

企业介绍以及相关软文

会刊广告

研讨会会刊,

彩色全页广告(尺寸A4)

资料入袋赞助

企业的宣传册放入会议包袋

现场展台

现场展示台,展示样品、资料,

含两个参会名额

现场易拉宝

现场1个易拉宝展示

礼品赞助

印有赞助商logo的礼品赠送参会听众

茶歇赞助

冠名和赞助会议期间的茶歇

晚宴赞助

冠名和赞助会议的招待晚宴

Logo展示

背景墙 logo,会刊封面logo

如果您有意向参与演讲、赞助或参会, 欢迎您与我们联系:赵经理   18930537136  ( 微信同号)