掩模版迎来新一轮升级：从6×12英寸到曲线图

今年7月，85位圈内人交了底。94%的人觉得掩模市场还得涨，但新技术啥时候能真量产，大家心里都没谱。

设备投资也跟着分化。93%的人盯上了多电子束写入设备，检测设备也高达92%。说白了，图形越复杂，造出来不算完，还得测得准。

大尺寸掩模这事，66%的人押注6×12英寸。注意，这12英寸说的是掩模版的长边。ASML和台积电已经下场了，目标2031年建试验线。不过眼下High-NA EUV还得先用老规格顶着。

至于High-NA EUV广泛量产，64%的人觉得最早也得2029年。毕竟良率和成本都得过关。

更细的规矩也来了。46%的人认为辅助图形最小会到15纳米。别看数字小，这只是掩模上的辅助纹路。连带检测覆盖率预期也跟着翻倍，从43%直接跳到了64%。

曲线掩模也在铺开。87%的人预计三年内，多数先进厂至少会用一层曲线图形。79%的人觉得，到时候不止一家机构能搞定超两成的曲线设计。

说到底，卖多少货是一回事。配套设备就位没有、曲线图形铺多广，才是决定产能能不能跟上的硬指标。