第七届光电子集成芯片培训(光芯片设计基础班)——光电子集成芯片与工程实践培训
活动详情
培训时间:2026年8月25日—27日
培训地点:西安
报名网址:
https://b2b.csoe.org.cn/registration/FPIC2026_Training.html
报名截止时间:2026年7月31日
本文系第七届光电子集成芯片系列培训通知之一,更多班级详情及整体安排请参见培训总通知:培训通知丨第七届光电子集成芯片培训

光电子集成芯片是支撑高速光通信、数据中心互连、人工智能算力基础设施及新型信息处理系统的重要核心技术。随着硅光技术产业化进程不断加快,光芯片设计已成为连接基础研究与产业应用的重要环节。掌握先进设计工具和标准化开发流程,是开展光电子集成芯片研发与工程实践的关键基础。
为帮助科研人员和工程技术人员系统掌握光电子集成芯片设计方法与主流EDA工具使用流程,中国光学工程学会将于第七届光电子集成芯片立强大会期间举办“第七届光电子集成芯片培训——光芯片设计基础班”。
本课程面向具有一定光电子集成基础的科研人员和工程师,围绕光电子集成芯片设计全流程开展培训。课程内容涵盖基于PDK的设计自动化全流程、FDTD/MODE/CHARGE/HEAT/INTERCONNECT等多物理场仿真工具应用、Y-Branch/模斑转换器/MZM/热光移相器等典型器件设计与仿真、光交换芯片项目设计实操、边缘耦合器设计、逆向设计优化方法、有源模块联合仿真、AI Agent辅助建模等模块,通过“理论讲解+软件实操+案例演练”的教学模式,帮助学员掌握主流设计软件的使用方法和光芯片开发流程,为开展科研创新和工程研发提供支撑。
培训概况:
培训时间:2026年8月25日—27日
培训地点:西安
培训规模:限额70人
培训对象:
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已具备光电子集成基础知识的研究人员;
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高校硕士、博士研究生;
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光通信、光电子、微电子相关专业教师和科研人员;
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光电子集成芯片研发工程师;
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希望系统掌握光芯片设计流程与软件工具的产业技术人员。
培训特色:
光芯片设计全流程培训
围绕光电子集成芯片设计开发全流程,系统讲授从PDK调用、原理图设计、自动化布局布线,到器件级仿真、线路级系统仿真、版图验证与DRC修复,再到封装设计的完整技术链条,帮助学员建立从设计到交付的完整工程认知。
国际主流EDA软件实操
基于Luceda IPKISS(PDK开发与自动化设计)、Ansys Lumerical(FDTD/MODE/CHARGE/HEAT/INTERCONNECT多物理场仿真)、MAX-OPTICS(国产自主仿真平台)三大设计平台开展教学,帮助学员掌握产业界主流开发工具的使用方法。
丰富案例实践训练
通过Y-Branch、模斑转换器(Spot Size Converter)、MZI滤波器、MZM调制器、热光移相器、光交换芯片、边缘耦合器等典型案例,开展从器件建模、参数扫描、多物理场仿真到系统级联合仿真的完整实操训练。
多物理场与多求解器联合仿真
系统讲解FDE/varFDTD/EME三种求解器的适用场景与算力差异,以及CHARGE(电学)、HEAT(热学)、FDTD/FDE(光学) 的多物理场耦合仿真方法,并演示有源模块DDM联合仿真完整流程,帮助学员掌握光电热多物理场协同设计能力。
逆向设计与AI辅助建模
深入讲解基于伴随法(Adjoint Method) 的光子逆向设计原理与实操,涵盖Y-Branch等器件的自动化优化流程;同时介绍AI Agent智能体辅助建模方法,展示通过自然语言驱动实现参数化建模、仿真运行与数据分析的智能化工作模式。
设计能力提升
通过光芯片项目设计完整案例,学员将经历从器件建模、线路设计、版图合并到DRC修复的完整项目周期,掌握符合流片标准的工程设计能力与项目资产管理方法。
课程安排与内容简介:
8月25日
09:00-12:00|基于PDK出发的光电子芯片设计介绍
随着光电子芯片集成度不断提高,传统人工布线方法已难以满足复杂线路的高效设计需求,基于 PDK的标准设计流程成为保障流片成功的关键。本部分围绕光电子芯片设计自动化的前端流程展开,基于LUCEDA IPKISS平台,介绍从PDK 调用器件、基于原理图的线路设计方法,以及自动化布局布线函数的基本使用方式。进一步结合MZI Lattice 滤波线路案例进行软件实操,帮助学员建立符合晶圆厂工艺标准的线路构与验证能力。
光电子芯片设计自动化:从PDK到原理图与仿真
随着CPO(共封装光学)与 AI集群高速互连需求的快速升温,硅光芯片正从器件级设计迈入大规模集成设计的新阶段,基于 PDK 的设计自动化已成为缩短流片周期的核心能力。本部分基于行业标准化的LUCEDA IPKISS平台,围绕光电子芯片设计自动化的前端流程展开,介绍从 PDK 调用器件、基于原理图的线路设计方法,以及自动化布局布线函数的基本使用方式。
光电子芯片设计自动化:0PA实例与可制造性设计
CP0 与高密度光互连的产业化推进,对光电子芯片的集成规模与工艺兼容性提出了更高要求,传统手工版图己难以支撑复杂线路的高效交付。本部分以光学相控阵(OPA)为典型案例,讲解大规模线路的自动化布局布线策略、线路后仿真与版图验证流程。结合IPKISS软件操作,分析设计自动化在高密度集成、异质异构集成等方向的发展趋势与应对思路,确保学员学握具备流片兼容性与可制造性的完整设计方法。
13:30-14:15|FDTD介绍
课程概要:本部分主要是对FDTD模块进行讲解,该算法基于麦克斯韦方程时域有限差分法,适配硅光、衍射光学等微纳器件仿真。区分几何光线追迹与波动光学仿真适用场景,完整讲解 FDTD 建模流程、材料拟合、光源 / 监视器设置及 Lumerical 脚本自动化操作。
14:15-15:00|Y Branch器件的仿真设计与实操
课程概要:本部分以 Y Branch器件为例演示 Lumerical 仿真实操,完成器件模场查看、仿真计算、S 参数提取与绘图,导出s参数后导入 INTERCONNECT 做系统仿真。同时额外拓展几何参数化建模方法,通过粒子群优化迭代优化分支结构,显著降低器件插入损耗,直观展示器件建模、参数扫描、系统联合仿真与自动优化完整实操流程。
15:00-15:10|茶歇
15:10-16:00|MODE(VarFDTD、FDE、EME三种求解器介绍)
课程概要:本部分讲解 Ansys Lumerical MODE 三大核心求解器:FDE、varFDTD、EME。FDE 用于求解波导截面本征模,获取有效折射率、色散等参数;varFDTD 采用 2.5D 等效折射率近似,用于仿真平面光波导,计算速度远优于 3D FDTD;EME 基于本征模展开,适合长尺寸渐变器件,搭配 CVCS 子单元消除阶梯误差,计算效率极高。结合耦合器、谐振腔、渐变波导等案例,对比三种求解器原理、适用场景与算力差异。
16:00-16:15|Spot size converter器件的仿真设计
课程概要:模斑转换器(Spot size converter)常用于光纤与硅光波导高效耦合,可采用 Ansys Lumerical MODE 套件的 EME 求解器完成仿真设计。相比 3D FDTD,EME 扫频仿真耗时从数小时缩短至数分钟,搭配 CVCS 子单元还能弱化阶梯伪影。仿真可快速获取不同波长下耦合损耗、模场分布等指标,高效完成模斑转换器结构优化。
16:15-16:30|Photonic Inverse Design光子性能逆向设计
课程概要:光子逆向设计依托 Ansys Lumerical Lumopt 工具实现无源器件自动化优化,区别传统正向试错设计。该方案采用伴随法高效求解性能梯度,仅需两次仿真即可完成梯度计算,大幅降低迭代成本。支持轮廓参数化与拓扑优化两种建模方式,可基于 FDTD、varFDTD 求解 Y 分支、解复用器等器件。
16:30-17:00|Y Branch逆向仿真设计与实操
课程概要:部分介绍 Y Branch逆向仿真完整实操流程,基于 Ansys Lumerical Lumopt 逆向优化工具开展设计。通过FDTD 三维仿真优化,以分光均匀、低插入损耗为优化目标,通过伴随法加速梯度求解,大幅减少迭代仿真次数。基于样条曲线参数化分支轮廓,设置多组宽度变量作为优化参数,经粒子群迭代后损耗显著降低。优化完成可导出器件 S 参数与 GDS 版图,S 参数文件可导入 INTERCONNECT 搭建光子电路,完成系统级性能验证。
8月26日
09:00-09:45|光电子集成芯片封装设计与工艺
课程概要:随着光电子芯片器件规模的不断扩大,集成封装在芯片研究中越来越关键,在很多场景中,将芯片集成为模块,是架通芯片设计制备和系统性能测试的桥梁,直接影响芯片性能表征与研究进程。《光电子集成芯片封装设计与工艺》培训聚焦封装核心要点:从光电封装概述入手,依次讲解光学封装和电学封装基础知识,包括多物理场协同设计、光纤耦合、片间精密对准、电学互连、热管理、高精度贴装、失效分析等核心技术,并根据封装要求总结芯片和对应的封装方案设计规则,最后介绍两个芯片的封装实例。通过精炼讲解,学员将认识芯片集成封装流程,并掌握基本的设计思路及问题解决方法,提升工程应用能力。
09:45-10:30|CHARGE (electronic) 介绍(EO modulator仿真设计、Photodetector仿真设计功能介绍及案例)
课程概要:系统讲解有源光电子器件载流子多物理场仿真全流程。课程先完整介绍 CHARGE 求解器核心原理、漂移扩散方程求解逻辑与光电联合仿真工作流,重点拆解电光调制器(EO modulator)仿真设计实操,覆盖 PN 结载流子分布、电光折射率调制、行波电极电光耦合建模方法;同步讲解光电探测器(Photodetector)全套仿真功能,包含暗电流、响应度、带宽等仿真设置。课程配套完整工程案例,演示从结构建模、掺杂配置、网格优化到结果提取完整操作,帮助学员掌握有源光电器件精准仿真手段,快速解决调制器损耗、探测器灵敏度等实际设计难题,提升芯片前期仿真迭代效率。
10:30-11:00|HEAT (thermal) 介绍(Thermal phase shifter仿真设计功能、案例及实操)
课程概要:聚焦硅光热光移相器仿真设计实操教学。课程先讲解 HEAT 热求解器基础理论与多物理场耦合仿真流程,详细拆解热光移相器核心仿真功能,涵盖热源建模、温度场分布等仿真设置方法。结合工程典型案例分步演示完整建模流程,同步配套现场实操环节,手把手指导学员完成结构搭建、边界条件配置、网格划分及仿真结果分析,助力学员快速掌握热移相器温控优化,高效解决硅光芯片热相关设计痛点。
11:00-11:10|茶歇
11:10-12:00|INTERCONNECT介绍(MZM仿真设计功能、案例及实操)
课程概要:聚焦 MZM 调制器线路级整体仿真设计。课程围绕 Interconnect 仿真模块核心能力展开讲解,打通分立器件仿真与光路系统仿真的联动流程,详细拆解 MZM 完整光路搭建、波导互联、相位调控、消光比、插入损耗、带宽等关键指标仿真配置技巧。同步设置现场实操环节,带领学员动手完成完整线路建模与仿真分析,帮助参会工程师快速掌握光子集成线路仿真方法,高效优化 MZM 整体调制性能,减少流片迭代成本。
13:30-17:00|光电子芯片项目设计实操
随着 CP0 与 AI 集群高速互连的快速发展,硅光芯片正加速从单器件研究走向全流程项目交付,基于真实流片标准的项目设计能力已成为工程师的核心竞争力。本课程紧贴真实研发流片场景,系统讲解光电子器件设计、自定义单元器件模型搭建,以及 Luceda 平台工具与Lumerical的联合仿真迭代方法。学员将学习器件库与项目资产管理规范,并以“光交换芯片设计”为核心案例,进行全流程实操,涵盖器件测试结构设计、光芯片线路设计与验证。谋程重点讲授版图合并策略及常见DRC(设计规则检查)问题的修复方法。帮助学员熟悉完整项目设计周期,具备独立完成光芯片基础项目设计与版图交付的能力。
器件建模与联合仿真:从自定义单元到光交换芯片基础
AI 算力集群与数据中心光互连的快速扩张,正推动光交换芯片向更高端口密度与更低插损方向持续演进,这对器件级建模精度与设计迭代效率提出了更高要求。本部分围绕器件级设计展开,讲解自定义单元器件模型搭建方法,以及Luceda平台工具和Lumerical的联合仿真流程,实现设计与迭代的高效闭环。进一步结合“光交换芯片设计”案例,进行器件测试结构设计与线路构建的练习,帮助学员掌握符合流片标准的基础项目设计能力。
项目交付与版图验证:资产管理、版图合并与DRC修复
在光电子芯片流片节奏不断加快的产业背景下,版图交付质量已成为决定项目成败的关键因素之一,项目资产管理规范化与设计规则检查(DRC)通过率直接关系流片成败。本部分聚焦项目设计全流程的后端环节,系统讲解器件库与项目资产的规范化管理方法、版图合并策略,以及常见 DRC 问题的识别与修复流程。结合“光交换芯片设计”完整案例,帮助学员熟悉从设计到版图交付的完整项目周期,具备独立完成光芯片基础项目设计与交付的能力。
8月27日
09:00-10:00|无源模块在边缘耦合器设计中的应用(一)
课程概要: 讲解如何使用Max-Optics Studio的FDE求解器,仿真SiN边缘耦合器尖端模式并计算其与单模光纤的耦合效率。流程分为三步:先禁用硅衬底,在PML边界条件下求解尖端模式的TE/TM有效折射率;再启用硅衬底,通过“Near N”搜索和PML模式过滤获取含衬底的模式场分布;最后利用重叠分析,将模式场与不同束腰半径的高斯光束进行匹配与位置优化,得到耦合效率。关键设置包括PML边界条件及偏振角设定。该方法可推广至其他偏振、材料和波导结构。
10:00-11:00|无源模块在边缘耦合器设计中的应用(二)
课程概要:讲解如何使用Max-Optics的EME求解器对边缘耦合器中的多段线性纳米锥进行仿真与优化。首先通过FDE求解器计算不同锥形截面处TE₀模式的有效折射率,为EME设置提供“Near N”参考;接着在EME中依据FDE结果配置各组和端口参数,并采用子单元方法减小渐变结构的界面反射;最后通过EME群组跨度扫描功能,对锥形段长度进行参数化扫描和迭代优化,在保证低本征损耗的同时缩短器件长度、降低衬底泄漏,实现性能与紧凑性的平衡。该方法为锥形波导的结构设计提供了高效的仿真优化流程。
11:00-12:00|无源模块在边缘耦合器设计中的应用(三)
课程概要:课程讲解如何用Max-Optics FDTD求解器仿真边缘耦合器。首先回顾FDTD基于Yee网格的时域递推原理,利用脉冲激励和傅里叶变换一次获得宽频响应。仿真要点上,需对锥形尖端设置亚波长网格和PML边界,并启用宽带模式光源。仿真前养成收敛性测试、材料色散检查及端口模式校准的好习惯。最后借助内置的Mode Expansion功能,将监测面的频域场精确分解为波导本征模,直接提取基模耦合效率,为边缘耦合器性能评估提供完整的数据支撑。
13:30-14:10|硅光器件的逆向设计案例
课程概要:本课程聚焦硅基光电子器件的优化设计方法,系统讲授正向设计与逆向设计策略,并深入分析逆向设计中不同方法所涉及的设计参数、自由度与计算复杂度。课程以伴随法(Adjoint Method)为核心,从离散化系统矩阵出发,严格推导其数学原理与梯度计算过程,阐明伴随场与伴随源的引入机制。在此基础上,结合一阶Born微扰近似与互易性原理,直观揭示伴随法的物理图像。最后,课程将借助Max-Optics Studio软件进行实操,完整演示Y分支波导的逆向设计优化案例,展现伴随法带来的高效优化能力。
14:10-14:40|HEAT模块在热像仪器的仿真
课程概要:本课程聚焦使用Max-Optics HEAT求解器与FDE求解器仿真热相移器。首先,介绍HEAT模块求解器原理,基于2D/3D有限元网格,通过对热传输方程进行离散化求解获得固态器件的温度场T,求解器支持稳态求解与瞬态求解。仿真要点上,热相移器需要热光联合仿真,HEAT模块获得稳态温度场,通过温度对折射率扰动模型施加折射率扰动,从而计算获得功率/温度与相变关系。
14:40-15:50|有源模块原理介绍及典型案例仿真精讲
课程概要:本次内容聚焦光通信有源器件联合仿真,核心依托DDM有源模块,其仿真基于泊松、连续性、输运三大物理方程,搭配载流子复合、迁移率退化模型,精准模拟半导体器件特性。软件具备光电多求解器联合、计算高速高精度、支持SDK二次开发三大优势,可联动FDE、FDTD无源模块完成联合仿真。实操包含两大案例:马赫-曾德尔调制器采用DDM求解载流子分布,对接FDE分析折射率与光学损耗;垂直光电探测器先通过FDTD提取光生载流子速率,再经DDM仿真暗电流、光电流与器件带宽,完整演示稳态、交流小信号、瞬态等多模式仿真操作流程。
15:50-16:30|AI Agent辅助建模介绍
课程概要:本课程围绕 Max-Optics 自研光学仿真生态展开,讲解 Max-Optics SDK 开发接口、MCP 工具协议架构与平台专属 AI 智能体建模流程。课程演示通过prompts,使用第三方agent进行SDK开发的coding建模过程,引导Agent自我迭代;实操自研 AI Agent 辅助建模功能,智能体直接操作GUI,完成参数化建模、运行、仿真数据分析等。兼顾开发人员与光学工程师需求,打通代码开发、自动化仿真、智能体建模全链路,帮助学员摆脱重复手动建模,提升光子、集成光学仿真研发效率,快速掌握智能化光学仿真工程落地方案。
讲师团队(音序):
本次培训邀请来自国内知名高校、科研院所及产业机构的专家学者和技术负责人授课。

郭宇耀,工学博士,现为上海交通大学助理研究员。研究方向为硅基光电子芯片集成技术和III-V族/无源材料混合腔激光器及其应用。承担或参与国家自然科学基金委、国家科学技术部、XX部委等纵向项目和华为技术有限公司等横向项目。发表SCI和国际会议论文30多篇,申请国家发明专利10余项。

张子健,电子科技大学,Luceda Photonics资深应用工程师。专注于PIC领域,主持或参与了多个核心PDK搭建与高性能流片项目,并深度参与Luceda IPKISS的产品研发与预研。在PDK标准化、软件定制、芯片流片验证等全流程工程应用中拥有扎实的底层沉淀。曾面向多所知名高校、科研院所及企业开展专业软件培训,累计赋能学员超百人,具备丰富的产业技术交付与赋能经验。
上海曼光信息科技有限公司团队
上海曼光信息科技有限公司成立于2018年,是一家专注于国产光电设计仿真软件研发的创新型企业。早在2010年,曼光团队即率先实现GPU加速FDTD算法的原始技术创新,开创性的将GPU并行计算引入商业级光电仿真软件,奠定了行业技术先发优势。公司核心产品 Max-Optics Studio面向硅光子学与光电子领域,基于自主核心算法、灵活模块架构与高性能GPU引擎,仿真精度达到国际先进水平。凭借领先的GPU加速能力,产品广受客户好评,有效推动了光电仿真行业的技术革新,已成为具备国际竞争力的国产EDA软件平台。
Ansys Lumerical团队
Ansys Lumerical 是业界领先的光子学仿真工具,其拥有完整的光子学仿真解决方案,支持全套光子学器件级和系统级仿真。器件和系统级工具无缝协作,让设计人员能够对相互作用的光学、电气和热效应进行建模仿真。产品之间灵活的互操作性支持将多物理场仿真和光子电路仿真与第三方 EDA工具相结合的各种工作流程,以帮助优化产品性能、最大限度地降低物理原型制作成本并缩短产品上市时间。
深圳市摩尔芯创科技有限公司
深圳市摩尔芯创科技有限公司(MoorEDA Technology Limited)成立于2021年,专注于为硅基光电子、电力电子、高科技半导体等行业提供先进的电子设计自动化(EDA)和计算机辅助工程(CAE)协同解决方案;提供从光学、光电子学、电磁场、结构、流体、多物理场耦合等全面的工业软件应用解决方案和咨询服务。MoorEDA致力于为国内各高校、科研院、高科技电子以及半导体行业客户,提供研发、设计、管理等过程中使用的相关软件工具,帮助客户加快研发速度,缩短产品周期,提高产品可靠性,更快的推动项目的落地与实施。
软件资源支持:
参训学员可免费获得:
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Ansys Lumerical设计与仿真软件1个月使用授权;
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Luceda Photonics设计软件1个月使用授权;
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MAX-OPTICS设计与仿真软件3个月使用权限。
培训费用:
3000元/人
说明:
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培训费包括培训课程入场、午餐、培训电子版(7月31日后报名)和纸质版资料(7月31日前报名)。
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本培训可与“初阶班”联报,联报学员可享受4300元/人的优惠价格。
报名方式:
报名截止时间: 2026年7月31日
报名网址:
https://b2b.csoe.org.cn/registration/FPIC2026_Training.html
缴费方式:
a) 银行汇款: 电汇账户:中国光学工程学会 账号:0200296409200177730 开户行:工行北京科技园支行 附言备注项:立强培训+姓名
b) 在线支付:注册完成后,可跳转到在线支付页面,选择“支付宝”在线完成支付。
特别说明:
各班席位按缴费时间顺序锁定,满额后截止报名。缴费成功后,组委会将主动与您联系,对接后续事宜。请确认报名意向后缴费,除不可抗力因素外,缴费后不予退费。
联系方式:
张老师,13911650484
掌握光电子集成芯片设计方法,熟悉国际主流EDA工具,提升工程研发能力。欢迎广大高校师生、科研人员及产业技术人员报名参加。
本活动隶属于第七届光电子集成芯片立强大会

(https://b2b.csoe.org.cn/meeting/FPIC2026.html)
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